高轉(zhuǎn)速的均質(zhì)機(jī)

影響分散均質(zhì)結(jié)果的因素
 

1 均質(zhì)頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 均質(zhì)頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 均質(zhì)頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4 物料在分散墻體的停留時(shí)間，均質(zhì)分散時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線(xiàn)速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線(xiàn)速率

– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SID 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

SID超高速分散均質(zhì)機(jī)是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相(液體、固體)進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過(guò)程的設(shè)備的設(shè)備。當(dāng)其中一種或者多種材料的細(xì)度達(dá)到微米數(shù)量級(jí)時(shí)，甚至納米級(jí)時(shí)，體系可被認(rèn)為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時(shí)，兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機(jī)由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線(xiàn)速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來(lái)的強(qiáng)勁動(dòng)能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液），乳液（液體/液體）和泡沫（氣體/液體）。高剪切均質(zhì)機(jī)從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細(xì)的分散均質(zhì)，經(jīng)過(guò)高頻管線(xiàn)式高剪切分散均質(zhì)均質(zhì)機(jī)的循環(huán)往復(fù)，從而得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。

GRS2000系列產(chǎn)品與傳統(tǒng)的設(shè)備對(duì)比

⑴傳統(tǒng)設(shè)備需要8小時(shí)的分散過(guò)程，GRS2000設(shè)備1小時(shí)就可以完成，更加高效、節(jié)能。

⑵傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn)，帶有分散功能的每分鐘轉(zhuǎn)速也在1500轉(zhuǎn)之內(nèi)，而GRS2000系列每分鐘轉(zhuǎn)速可達(dá)到5000-6000轉(zhuǎn)，更加快速。超高的線(xiàn)速度產(chǎn)生的剪切力，使物料瞬間細(xì)化分散，從而獲得更高品質(zhì)的產(chǎn)品。

高轉(zhuǎn)速的均質(zhì)機(jī)設(shè)備選型表：